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          企業新[xīn]聞

          2020年全[quán]國標委[wěi]會微光[ɡuānɡ]刻分技[jì]術委員[yuán]會成立[lì]大會暨[jì]第十屆微光刻[kè]技術交[jiāo]流大會在四川[chuān]成都成[chénɡ]功舉辦

          2020-11-11 17:08:09 Newway 78

                11月[yuè]9-10日,全國半[bàn]導體設備和材[cái]料標準化技術委員會微光刻[kè]分技術委員會成立大[dà]會暨第[dì]十屆微[wēi]光刻技[jì]術交流[liú]會在成[chénɡ]都市隆[lónɡ]重舉行[xínɡ],本屆會議由成[chénɡ]都路維光電有[yǒu]限公司[sī]承辦。來自[zì]全球半[bàn]導體、集[jí]成電路[lù]微光刻[kè]相關的[de]學術、科[kē]研、投[tóu]資等各[ɡè]界精英[yīnɡ]代表近[jìn]200人參會,聚[jù]焦全球[qiú]半導體集成電路產業[yè]發展、前沿技術以及產[chǎn]業創新[xīn]等熱點,共同促[cù]進行業[yè]交流與協同創[chuànɡ]新。

                 微光刻[kè]分技術委員會成立大[dà]會暨第[dì]十屆微[wēi]光刻技[jì]術交流[liú]會開幕[mù]式由中[zhōnɡ]國科學[xué]院理論物理研[yán]究所書記、研究[jiū]員副所[suǒ]長;全國半導體設備和[hé]材料標準化技[jì]術委員[yuán]會微光[ɡuānɡ]刻分技[jì]術委員[yuán]會主任[rèn]馮稷主持。會上成[chénɡ]都市高[ɡāo]新區管[ɡuǎn]委會副[fù]主任趙繼東致[zhì]歡迎詞,成[chénɡ]都高新[xīn]區電子[zǐ]信息產[chǎn]業發展[zhǎn]局副處長沈瀛[yínɡ]致詞并[bìnɡ]對成都[dōu]電子信[xìn]息產業[yè]功能區[qū]招商環[huán]境作了[le]介紹;成[chénɡ]都路維光電有[yǒu]限公司[sī]董事長兼總經理杜武[wǔ]兵代表[biǎo]承辦方[fānɡ]對此次[cì]前來參會的各[ɡè]位領導、專家、同仁表[biǎo]示熱烈[liè]的歡迎[yínɡ]。國家集成[chénɡ]電路產[chǎn]業投資基金投[tóu]資股份[fèn]有限公[ɡōnɡ]司總裁[cái]、全國半[bàn]導體設備和材[cái]料標準化技術委員會主任委[wěi]員丁文[wén]武致詞,向微光[ɡuānɡ]刻分技[jì]術委員[yuán]會成立[lì]大會暨[jì]第十屆微光刻[kè]技術交[jiāo]流會順利召開表示熱烈的祝[zhù]賀。


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          丁文武[wǔ]總裁致[zhì]詞


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          杜武兵[bīnɡ]董事長致詞


                 會上,丁[dīnɡ]文武總裁宣讀國家標準管理[lǐ]委員會批文,為各位[wèi]委員頒發證書并向各[ɡè]位資深[shēn]顧問和[hé]專家頒發聘書。


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          頒發證書、聘[pìn]書


                 中國科[kē]學院微[wēi]電子研[yán]究所研[yán]究員、全國半導體設備和[hé]材料標準化技[jì]術委員[yuán]會微光[ɡuānɡ]刻分技[jì]術委員[yuán]會委員[yuán]兼秘書長陳寶[bǎo]欽對微[wēi]光刻分[fēn]技術委[wěi]員會十[shí]年的發[fā]展歷程[chénɡ]及國家[jiā]標準制[zhì]定情況[kuànɡ]作了匯[huì]報。


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          陳寶欽[qīn]秘書長匯報


                本次會議齊聚[jù]微光刻[kè]領域的[de]專家和[hé]技術人[rén]員,對微光[ɡuānɡ]刻技術、微[wēi]光刻設備和材[cái]料技術的發展[zhǎn]趨勢、最新研[yán]究成果[ɡuǒ]等展開深入的[de]交流與探討,為微光刻[kè]業界提[tí]供了一[yī]個最新[xīn]發展動態的交[jiāo]流平臺。復旦大學[xué]、中科院[yuàn]微電子[zǐ]所、中[zhōnɡ]科院上[shànɡ]海應用[yònɡ]物理所[suǒ]等9家[jiā]單位代[dài]表為大[dà]家帶來了精彩[cǎi]的專業[yè]報告,報告[ɡào]涵蓋了[le]微光刻[kè]技術、微光[ɡuānɡ]刻設備與材料[liào]技術等[děnɡ]內容,與會代表[biǎo]們在會上分享[xiǎnɡ]了各自[zì]領域的[de]最新進展及研[yán]究成果[ɡuǒ]。對微光[ɡuānɡ]刻技術、微光刻[kè]設備和[hé]材料技[jì]術的發[fā]展趨勢、最新[xīn]研究成[chénɡ]果及進展等展[zhǎn]開深入[rù]的交流[liú],共[ɡònɡ]同探討微光刻[kè]學界、業界前沿的重[zhònɡ]點、難點問[wèn]題。


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                 在全國疫情防控常態[tài]化背景[jǐnɡ]下,這次大[dà]會順利[lì]舉行來之不易[yì]。此次[cì]會議的[de]召開為國內微[wēi]光刻技[jì]術、光掩模[mó]制造技[jì]術、微[wēi]納米制[zhì]造技術與半導體掩模[mó]制造設備等領域的生[shēnɡ]產企業[yè]、科[kē]研院所[suǒ]、高[ɡāo]等院校[xiào]及用戶單位提[tí]供一個[ɡè]相互學[xué]習、交[jiāo]流的一[yī]個平臺,共促行[xínɡ]業發展[zhǎn]。會后,參會代[dài]表參觀了成都[dōu]路維高[ɡāo]世代光[ɡuānɡ]掩模版[bǎn]生產基[jī]地國內首條高[ɡāo]世代G11 光掩模[mó]產線。路維光電是[shì]國內光[ɡuānɡ]掩模行[xínɡ]業成立[lì]較早的[de]企業之[zhī]一,光掩模[mó]產品全[quán]面配套[tào]國內高[ɡāo]世代、新[xīn]型顯示[shì]及半導體產業[yè]。經過23年的努[nǔ]力與沉[chén]淀,已發[fā]展為我[wǒ]國唯一[yī]全尺寸[cùn]光掩模[mó]研發制[zhì]造企業[yè]。成都路[lù]維超大[dà]尺寸超[chāo]高精密[mì]光掩模[mó]產品已[yǐ]正式供[ɡònɡ]貨,我國顯示面板[bǎn]用超大[dà]尺寸高[ɡāo]精密光[ɡuānɡ]掩模版[bǎn]取得了[le]階段性[xìnɡ]的突破[pò],加[jiā]速推進新型顯示上游[yóu]關鍵材[cái]料國產[chǎn]化進程[chénɡ]。


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          專家領導蒞臨指導成[chénɡ]都路維


                下屆微[wēi]光刻會議將于[yú]2021年在[zài]中國科[kē]學院微[wēi]電子研[yán]究所南[nán]京智能[nénɡ]技術研[yán]究院舉辦,屆時[shí],微光刻[kè]界研究[jiū]所、院校、企業將再[zài]次聚首南京,共謀產業發[fā]展大計。


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